高比表面積氫氧化鈣設(shè)備該設(shè)備可用于生產(chǎn)高比表面積的氫氧化鈣。

  高比表面積氫氧化鈣是一種具有較大比表面積的氫氧化鈣粉，其比表面積較一般氫氧化鈣粉更大，因而在一些特定的應(yīng)用領(lǐng)域顯示出了良好的應(yīng)用前景。

  高比表面積氫氧化鈣裝置與一般的氫氧化鈣裝置在原材料的選擇，生產(chǎn)工藝和設(shè)備的結(jié)構(gòu)上都存在著較大的差異。生產(chǎn)高比表面積的氫氧化鈣，不僅需要用到細粉，而且通常還需要細粉的破碎、分級過程。同時，對該裝置的結(jié)構(gòu)進行了改造，使之能夠滿足高比表面積的氫氧化鈣磨粉的需要。因此，高比表的氫氧化鈣機相對于一般的氫氧化鈣機也更加的專門化和精細化。